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日本昭和电工拟建造上海第二工厂增产半导体资料

放大字体  缩小字体 2020-01-10 07:03:40  阅读:8735+ 作者:责任编辑NO。魏云龙0298

1月9日音讯,据国外新闻媒体报道,日本昭和电工日前宣告,方案建造上海第二工厂,增产半导体资料。

昭和电工株式会社(简称昭和电工)表明,为了强化电子资料用高纯度气体工作,决议在上海的出产基地-上海昭和电子化学资料有限公司(以下简称SSE)的周围获得第二工厂建造用地,建造高纯度一氧化二氮和高纯度八氟环丁烷的出产设备,以及高压气体危险品库房。第二工厂拟于2021年下半年投产。

上海第二工厂方案面积约10,000平方米,方案高纯度一氧化二氮年出产能力1,000吨,方案高纯度八氟环丁烷年出产能力600吨。

高纯度一氧化二氮主要是半导体及显示屏制作时的氧化膜的氧来历的特种气体,高纯度八氟环丁烷主要是这种氧化膜的微细加工(蚀刻)时的特种气体。

昭和电工表明,因为5G等信息通讯范畴的开展,估计往后我国大陆的半导体及显示屏商场(有机EL电视机等)将会扩展。

别的,昭和电工还表明,因为估计我国台湾地区的半导体商场相同也会扩展,本公司的现地出产子公司台湾昭和化学品出产股份有限公司也将新建年产150吨高纯度八氟环丁烷的出产设备(方案2020年春投产)。本次在上海和台湾的投资总额约为30亿日元(约合人民币1.9亿元)。

现在,昭和电工在川崎工作所和韩国基地出产高纯度一氧化二氮,并在川崎工作所和上海基地(SSE榜首工厂)出产高纯度八氟环丁烷。

昭和电工是一家综合性集团企业,出产的产品涉及到石油,化学,无机,铝金属,电子信息等多种范畴。

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